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雪花清洗機(jī)清洗半導(dǎo)體灰塵效果

發(fā)布時(shí)間：2023-10-11
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    液態(tài)二氧化碳清洗機(jī)可以有效地清洗半導(dǎo)體表面的灰塵。液態(tài)二氧化碳清洗屬于干式清洗，利用液態(tài)二氧化碳低溫和爆破的原理來(lái)清洗。該方法可以避免使用化學(xué)方式清洗而導(dǎo)致的表面損壞或化學(xué)反應(yīng)。通過(guò)壓縮空氣將液態(tài)二氧化碳噴射到半導(dǎo)體表面，能夠清洗掉表面的灰塵，清洗能力優(yōu)于直接空氣吹掃，且不會(huì)產(chǎn)生二次污染。
 
但是，液態(tài)二氧化碳清洗機(jī)對(duì)半導(dǎo)體表面的微小灰塵和污垢可能無(wú)法完全清除，需要結(jié)合其他清洗方法如離子清洗、溶液清洗、超聲波清洗等以獲得更好的效果。同時(shí)，要確保所使用的液態(tài)二氧化碳清洗劑不會(huì)對(duì)半導(dǎo)體表面產(chǎn)生損害？偟膩(lái)說(shuō)，液態(tài)二氧化碳清洗機(jī)對(duì)于半導(dǎo)體灰塵的清洗效果是比較不錯(cuò)的。