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雪花清洗機清洗半導體灰塵效果

發(fā)布時間：2023-10-11
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    液態(tài)二氧化碳清洗機可以有效地清洗半導體表面的灰塵。液態(tài)二氧化碳清洗屬于干式清洗，利用液態(tài)二氧化碳低溫和爆破的原理來清洗。該方法可以避免使用化學方式清洗而導致的表面損壞或化學反應。通過壓縮空氣將液態(tài)二氧化碳噴射到半導體表面，能夠清洗掉表面的灰塵，清洗能力優(yōu)于直接空氣吹掃，且不會產(chǎn)生二次污染。
 
但是，液態(tài)二氧化碳清洗機對半導體表面的微小灰塵和污垢可能無法完全清除，需要結(jié)合其他清洗方法如離子清洗、溶液清洗、超聲波清洗等以獲得更好的效果。同時，要確保所使用的液態(tài)二氧化碳清洗劑不會對半導體表面產(chǎn)生損害？偟膩碚f，液態(tài)二氧化碳清洗機對于半導體灰塵的清洗效果是比較不錯的。