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半導體激光bar條清洗

發(fā)布時間:2023-05-12
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半導體激光bar條清洗

 

為保證半導體器件高可靠性、穩(wěn)定性和使用的壽命,提升半導體產(chǎn)品成品率,避免污染物污染而造成電路失效,需要對半導芯片上的灰塵等殘留物清洗。
 
目前普遍使用的是液態(tài)二氧化碳清洗工藝,通過液態(tài)二氧化碳的低溫特性,可以高效清洗大功率半導體芯片上的灰塵。

 

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